2017年春季，电端峰夏普开始与鸿海共同着手推动新工厂的建设，鸿海广州10.5代线将力争在2018年秋季启动生产。
如图4所示，气亮Zn/UVPDA/PLGA结构在长期的浸泡实验中仍然保留了较完整的连接包覆结构，产生的腐蚀产物[Zn5(OH)6(CO3)2/Zn3(PO4)2]的量也少于其他组。PLGA涂层剥落导致锌的不均匀腐蚀，相世大量腐蚀产物可能导致应力屏蔽效应，从而提高强度。
本研究成果有望应用于可降解金属表面功能化修饰的设计制造中，界人将促进新一代可降解血管支架医疗器械的开发。工智在原子力显微镜观察下发现的微凸起实际应为在Zn衬底上沉积了一层平整聚多巴胺涂层后在溶液浸涂过程中由于高粘性而再次吸附于表面的聚多巴胺纳米球。图6.培养24小时和72小时后HUASMCs增殖行为分析(a)25%;(b)50%;(c)100%浓度的提取液培养HUASMCs增殖图7.培养24小时和72小时后HUVECs增殖行为分析(a)25%;(b)50%;(c)100%浓度的提取液培养HUVECs增殖【总结与展望】本研究开发出的高效真空紫外光辅助沉积仿生聚多巴胺涂层技术跳出了传统浸泡法沉积效率低的困境，云会描绘智慧城基于稳定的Zn/UVPDA化学连接平台有效地在可降解Zn金属表面修饰了可载药的聚乳酸涂层。
而Zn/UVPDA/PLGA结构的整体强度稳定，电端峰延伸率逐渐降低，说明浸泡期间降解过程均匀。与纯Zn样品相比，气亮UVPDA/PLGA涂层在不同样品的不同浓度提取物培养基中培养24小时和72小时后，对SMCs增殖表现出明显的抑制作用(图6a-c)。
此外，相世PLGA/PDA涂层增强了Zn基体的耐腐蚀性，在长期腐蚀后仍可保持一定的机械性能。
随后，界人PLGA涂层上裂纹延展，在直接断裂之前没有从基材上剥落（图3h），表明UVPDA/PLGA对Zn的附着力更好。（b）DSC曲线追踪纯冰和完全水合SWEG的熔化行为，工智其中直线表明样品中的所有水分子通过氢键与HPN强烈相互作用，成为不可冷冻水。
图三、云会描绘智慧城基于SWEG的VOC抑制机理（a）FTIR光谱显示SWEG中的亲水基团。图二、电端峰SWEG的表征（a）SWEG膜的照片。
其中，气亮太阳能水蒸馏正在成为一种很有前途的方法，可用于水循环利用，特别是对于迫切需要分散水处理的地区。相世（b）SWEG的横截面SEM图像呈现出均匀致密的结构。
